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等離子去膠機(jī)是在(RIE)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來(lái)，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。等離子去膠機(jī)主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗......

進(jìn)口等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、涂覆、光刻膠灰化等目的。進(jìn)口......

馬弗爐主要用于燃料測(cè)定水分、灰分、揮發(fā)分、熔點(diǎn)分析、灰成分分析、元素分析。也可以作為通用灰化爐使用。在食品、環(huán)境、制藥等方面也常有用處。馬弗爐日常維護(hù)保養(yǎng)注意事項(xiàng)主要有以下幾個(gè)方面：1.馬弗爐控制器應(yīng)限于在環(huán)境溫度0-40℃范圍內(nèi)使用。2.經(jīng)常保持爐膛清潔，及時(shí)清除爐內(nèi)氧化物之類東西。3.使用過(guò)程中，在爐內(nèi)用堿性物質(zhì)熔......

臺(tái)階儀屬于接觸式表面形貌測(cè)量?jī)x器。根據(jù)使用傳感器的不同，接觸式臺(tái)階測(cè)量可以分為電感式、壓電式和光電式3種。產(chǎn)品特點(diǎn)：·操作簡(jiǎn)易，從研發(fā)到質(zhì)量控制都有更好的過(guò)程控制?！つ軌蛟谖㈦娮?，半導(dǎo)體，太陽(yáng)能、超高亮度發(fā)光二極管（LED）、醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)等行業(yè)實(shí)現(xiàn)納米級(jí)表面形貌測(cè)量?！y(cè)量精度較高、量程大、測(cè)量結(jié)果穩(wěn)定可靠、重復(fù)性好......